制药设备清洁验证

来源：贝博下载    发布时间：2023-12-12 20:41:55

  制药设备清洁验证 采样办法 漂洗液采样 采样简单 设备总的外表采样 可进行定量测验：产品残留物、清洁剂、微生物、内毒素、TOC等。 漂洗液数量受到限制 残留物溶解性 制药设备清洁验证 采样办法 外表采样 经过试纸或触摸平皿采样 采样外表积已知 可收集粘在设备外表的残留物 可进行定量测验 可进行回收率评价 可准确界说采样程序 对密闭的设备不适用 制药设备清洁验证 采样办法 采样点 罐的垫圈 法兰 非卫生接口 管口 罐内壁 搅拌器 制药设备清洁验证 采样办法 采样资料 回收率已知 资料与办法之间不存在搅扰 尽或许使慵懒的 制药设备清洁验证 采样办法 溶剂的挑选 污染物的溶解性 污染物的性质（生物学、化学性质…） 被采样的外表的性质 采样资料 操作简单性 制药设备清洁验证 采样办法 样品处理 程序 重现性（至少3次） 回收率大于或等于50%，变异系数不超越10%。 制药设备清洁验证 测验办法Testing Methods 制药设备清洁验证 清洁剂 清洁剂的性质 规范 运用剂量 作用类型 漂洗办法（溶剂、数量…） 测验办法 与待清洁的外表的化学兼容性 与待去除的产品的兼容性 测验文件 制药设备清洁验证 清洁剂的溶剂 性质 规范 与清洁剂的兼容性 测验文件 制药设备清洁验证 清洁测验办法 采样办法 采样办法评价 测验办法 测验办法验证 测验计划：方位、频率、样本类型、测验办法 界说可承受的极限：产品和清洁剂的最大容许残留量 采样和测验记载 制药设备清洁验证 2.3 清洁程序 制药设备清洁验证 2.3 清洁程序 意图 规模 参阅文件 责任 东西和物料 程序 采样和测验 频率 记载 不符合的处理 Objective Scope Refrence Responsibility Tools and Material Procedure Sampling and Testing Frequency Records Treatment of Non Conformity 制药设备清洁验证 清洁程序 意图 规模 设备 工作条件 参阅文件 GMP 验证文件 技能文件 制药设备清洁验证 清洁程序 责任 谁做什么 东西和物料 列出对东西和物料的要求 溶液的制造 程序 办法的每个进程 制药设备清洁验证 清洁程序 采样和测验 采样办法 采样计划 样品的贴签和运送 测验办法 承受规范 频率 清洁 测验 制药设备清洁验证 清洁程序 记载 卡片 标签 不符合的处理 制药设备清洁验证 3、多规范剖析Multi-Criteria Analysis 制药设备清洁验证 多规范剖析 进程1：设备/产品分组 进程2 ：依照清洁难度对产品分类 进程3 ：依照溶解性对产品分类 进程4 ：依照活性/毒性对产品分类 进程5 ：挑选验证的产品 制药设备清洁验证 多规范剖析 进程1：确认依照相同程序进行清洁的设备/产品组 Syst.1 Syst.2 Syst.3 Syst.4 Pdt A Pdt B Pdt C Pdt D Pdt E 制药设备清洁验证 多规范剖析 进程2： 对每个产品的清洁难易程度打分，1～4分 1分：简单清洁 2分：相对简单清洁 3分：难以清洁 4分：很难清洁 制药设备清洁验证 多规范剖析 Cleanability Syst.1 Syst.2 Syst.3 Syst.4 Pdt A 1 Pdt B 4 Pdt C 2 Pdt D 3 Pdt E 3 制药设备清洁验证 多规范剖析 进程3： 确认产品的溶解性 假设产品只含有一种API，按该API的溶解性确认 假设含有几种API，以溶解度最低的API计 假设没有API，则以浓度最大相对难溶的组分计 依照溶解度打分，1分（全溶）～4分（不溶） 制药设备清洁验证 多规范剖析 Cleanability Sdulaility Syst.1 Syst.2 Syst.3 Syst.4 Pdt A 1 2 Pdt B 4 4 Pdt C 2 2 Pdt D 3 3 Pdt E 3 1 制药设备清洁验证 多规范剖析 进程4： 依照毒性/活性对产品分类 依照产品及其开发阶段，考虑最小医治剂量（Minimum Therapeutuic Dose，MTD）或致死剂量（Lethal Dose，LD50） 考虑最有活性的药品剂型 由于MTD和LD50不同，个人会运用中心参数 最大答应带着量（Maximum Allownble Carry Over，MACO） MACO：产品A能进入到产品B中而不导致危险的最大量。 制药设备清洁验证 多规范剖析 MACO= SF×LDSD SBS×NOBEL×70kg SBS：最小批量（Smallest Batch Size） NOBEL：不行观察到作用的水平（Not Observable Effect Level）（ LD50 ×5×10-4） LDSD：在设备中出产产品的最大日剂量（Largest daily dose of the product manufactured in the equipment） 70kg：人的体重（Man of Stockholm） SF：安全系数（Security factor） 制药设备清洁验证 多规范剖析 SBS：最小批量（Smallest Batch Size） MTD：最小医治剂量（Minimun Therapeutical Dose） LDSD：在设备中出产产品的最大日剂量（Largest daily dose of the product manufactured in the equipment） SF：安全系数（Security factor） MACO= SF×LDSD SBS×MTD 制药设备清洁验证 多规范剖析 为了将和MTD转换到MACO中，SBS、SF和LDSD在两个公式中有必要是相同的值。 即： MTD=NOBLE×70kg= LD50×5×10-4×70kg 制药设备清洁验证 多规范剖析 MTD or LD50 MACO (mg) Syst.1 Syst.2 Syst.3 Syst.4 Pdt A 0.01mg 0.01 Pdt B 2mg 2 Pdt C 150mg/kg 4.5 Pdt D 0.25mg 0.25 Pdt E 220mg/kg 6.6 制药设备清洁验证 多规范剖析 留意！ MACO越小，毒性越大。 制药设备清洁验证 多规范剖析 挑选表中哪个值？ MACO的倒数 或给MACO的倒数打分 例： -MACO的倒数 得分 ～0.99 1 - 1～9.9 2 - 10～99 3 -100～1000 4 制药设备清洁验证 多规范剖析 MACO MACO-1 NOTE Pdt A 0.01 100 4 Pdt B 2 0.5 1 Pdt C 4.5 0.22 1 Pdt D 0.25 4 2 Pdt E 6.6 0.15 1 制药设备清洁验证 多规范剖析 进程5：挑选要验证的产品 考虑三个规范 清洁难度 溶解性 活性/毒性 三个数字相乘 取得最大值的产品便是要验证的产品 制药设备清洁验证 多规范剖析 Cleanability Note Sdulaility Note Note MACO Analysis Criteria Syst.1 Syst.2 Syst.3 Syst.4 Pdt A 1 2 4 8 Pdt B 4 4 1 16 Pdt C 2 2 1 4 Pdt D 3 3 2 18 Pdt E 3 1 1 3 制药设备清洁验证 多规范剖析 Cleanability Note Sdulaility Note MACO 10-1 Analysis Criteria Syst.1 Syst.2 Syst.3 Syst.4 Pdt A 1 2 100 200 Pdt B 4 4 0.5 8 Pdt C 2 2 0.22 0.88 Pdt D 3 3 4 36 Pdt E 3 1 0.15 0.45 制药设备清洁验证 多规范剖析 优先挑选毒性最强的产品 对上例，验证： 设备1：产品D 设备2：产品A或B 设备3：产品D 设备4：产品A 制药设备清洁验证 4、采样与测验Samping and testing 制药设备清洁验证 采样准则 计划 The protocol 代表性 representativity 频率 frequency 数量 quantity 采样点 sampling location 辨认 identification 所用仪器及技能 Instrumentation and technical aspects. 制药设备清洁验证 采样办法Sampling Methods 制药设备清洁验证 采样办法 有必要标明污染物的散布 可经过揣度来评价设备外表上的残留量 每台设备至少3个采样点 制药设备清洁验证 2、清洁 Cleaning 清洁是一种工艺（一个进程） 操控点 清洁程序 制药设备清洁验证 2.1 清洁是一种工艺（一个进程） 制药设备清洁验证 设备清洁 意图 防止污染： Avoid contamination； 防止穿插污染： Avoid cross-contamination； 消除细菌污染： Eliminate bacteria contamination； 制药设备清洁验证 原料药出产中潜在的污染物 API 前体（产品母体） 副产品 降解产品 有机溶剂 气体 清洁剂 钝化剂（如硝酸和磷酸） 显象剂（如用于验证喷淋作用的荧光和核黄素） 微生物 内毒素 微粒 过滤原料（如木炭、钙铁石） 培养基 缓冲液 垫圈 内层（管道和容器） 润滑剂 制药设备清洁验证 污染物 生物污染物的来历： 人员 室内空气循环 HVAC体系 压缩空气体系 水处理体系 工艺水浴 包装资料 转移用的容器 制药设备清洁验证 污染物 出产用物料污染物的来历： 设备润滑剂 模具 东西外表 燃料或油 制药设备清洁验证 污染物 其他污染物的来历 金属氧化物 清洁残留物 害虫操控处理物 溶解的矿物质 制药设备清洁验证 清洁工艺 机械清洁法： 经过压力或机械力的作用去除污染物； 可在加热的条件下运用水压或汽压的作用去除污染物； 由于常用擦拭或研磨资料协助去除污染物，因而，应防止这一些资料留在设备中； 机械清洁后常用清洁剂清洁或漂洗以去除残留物； 运用不合格的水或许引进二次污染物； 压缩空气或许引进污染过的水和润滑油，如供给管线过滤不妥。 制药设备清洁验证 清洁工艺 化学清洁法： 用清洁剂和溶剂去除污染物； 去除有机物质作用好，如油； 去除无机物和氧化物作用一般较差； 特别要留意对机械清洁发生的无机污染物的去除，如金属微粒。 制药设备清洁验证 手艺清洁程序Manual Cleaning Procedure 手艺清洁程序的有效性取决于： 清洁程序的规划； 清洁人员依照清洁程序做相关操作的程度。 主动清洁程序的有效性取决于： 设备和程序的规划。 手艺和主动清洁程序最大的不同便是人的要素。 制药设备清洁验证 手艺清洁程序Manual Cleaning Procedure 技能和要求 对水质的要求：饮用水、PW、WFI； 清洁液：稀释和温度； 清洁技能：详细的清洁和擦拭技能； 有必要的设备：浸泡槽、水池、擦拭刷； 安全措施。 制药设备清洁验证 典型的CIP技能Typical CIP Procedures CIP 预漂洗 碱洗 后漂洗 酸洗 终究漂洗 制药设备清洁验证 CIP法清洁的设备 非肠道药出产设备 可移动的和固定的容器 衔接管道 粉末兼并体系 冻干机 过滤器 液体和口服制剂出产设备 枯燥、制粉、混合、分装设备 可移动的和固定的容器 衔接管道 生物药品液体出产设备 培养基预备体系 发酵罐 细胞处理设备、离心机、匀浆机 缓冲液制造体系 超滤器 可移动的和固定的容器 衔接管道 原料药出产设备 结晶化设备 过滤器 枯燥、制粉、混合、分装设备 制药设备清洁验证 CIP法清洁的设备和部件 容器 弹桶和膜过滤器 匀浆机 热交换器 工艺管道 分装机 制药设备清洁验证 CIP法或许清洁的设备的规划规范 设备内外表有必要润滑且本领清洁溶液和溶剂的腐蚀； 整个工艺，包含设备和管道有必要能够排空； 垫圈、密封圈有必要无裂缝，经FDA认可的橡胶制成； 夹钳形关节； 一切管道应有倾斜度以利于排空，每英尺1/16～1/8英寸的倾斜度； 无死角。 制药设备清洁验证 清洁是一种工艺 设备 Aachine 资料 Material 办法 Methods 人员 Man 环境 Medium 制药设备清洁验证 描绘要验证的清洁工艺 办法学 工艺 待验证的清洁程序； 俘虏程序：采样、测验程序。 物料： 什么物料：被清洁的产品、清洁剂、溶剂 数量 质量 来历 制药设备清洁验证 描绘要验证的清洁工艺 环境 区域描绘 布局 环境：等级 其他用处 人员 数量 资历 训练 更衣和行为 制药设备清洁验证 描绘要验证的清洁工艺 设备 物料和设备/东西描绘（要清洁的工艺和清洁程序） 称号（类型、标志、辨认） 方位 IQ/OQ文件 修理/校验程序 操作程序 制药设备清洁验证 清洁工艺陈说 对工艺的不同进程进行界说 条件 希望的和测验成果 制药

  原创力文档创建于2008年，本站为文档C2C买卖形式，即用户上传的文档直接共享给其他用户（可下载、阅览），本站仅仅中心服务渠道，本站一切文档下载所得的收益归上传人一切。原创力文档是网络服务渠道方，若您的权力被损害，请发链接和相关诉求至 电线) ，上传者